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晶圆字符量测设备
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晶圆字符量测设备

晶圆字符量测设备第一代硅晶圆字符量测已得到国内客户认可,正在研发第二代SIC晶圆字符量测国内首家实现晶圆字符在线测量设备采用激光显微镜共聚焦原理以及自研算法实现高精度量测量测重复精度

晶圆字符量测设备

第一代硅晶圆字符量测已得到国内客户认可,正在研发第二代SIC晶圆字符量测

国内首家实现晶圆字符在线测量设备

采用激光显微镜共聚焦原理以及自研算法实现高精度量测

量测重复精度<1um

第一代SI晶圆特性测量已获得国内客户认可,第二代SIC晶圆特性测量目前正在研发

中 国内首台实现晶圆特性

在线测量的设备利用激光显微镜的共聚焦原理和自主研发的算法,实现高精度测量

设备测量重复精度<1um


参数配置

搭载自主光路设计+高清相机实现晶圆自动引导定位

采用高精度激光显微镜利用20X/50X物镜对字符自动扫描测量

搭载自主光路设计+高清相机实现晶圆膜边距量测

搭配双端口或多端口EFEM单元对接OHT&AMR实现全自动上下料

配备独立光路设计和高清摄像头,实现晶圆自动引导和定位

采用高精度激光显微镜和20X/50X物镜自动扫描和测量字符

配备独立光路设计和高清摄像头,实现晶圆膜边缘距离

测量与双端口或多端口 EFEM 单元配对,与 OHT&AMR 对接,实现全自动上下料

功能描述

适用产品:半导体用6/8/12寸硅晶圆/SIC晶圆

适用工艺段:表面研磨 / 表面抛光 / 清洗 / 终检等

功能说明:

1.EFEM单元支持FOSB/FOUP/OC人工或AGV自动上料

2.高清相机自动引导定位

3.高精度激光显微镜自动测量

4.高清相机实现晶圆膜边距量测

适用产品:6/8/12英寸半导体硅片、SIC晶圆

适用工艺段:表面研磨/抛光/清洗/终检等

功能说明:

1. EFEM 单元支持手动或 OHT 自动进料,例如 FOSB/FOUP/OC

2。高清摄像头自动引导定位

3.高精度激光显微镜自动测量

4.用于测量晶圆薄膜边缘距离的高清相机


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